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वेफर हैंडलिंग के लिए उच्च-शुद्धता एल्यूमिना सिरेमिक रोबोट आर्म
सेंट सेरा का एल्यूमिना सिरेमिक रोबोट आर्म 99.8% उच्च शुद्धता वाले Al₂O₃ (एल्यूमिना) से सटीक इंजीनियरिंग द्वारा निर्मित है। इसमें असाधारण लचीलापन (361 MPa), उच्च कठोरता (16 GPa) और कम घनत्व (3.93 g/cm³) का संयोजन है, जिसके परिणामस्वरूप सेमीकंडक्टर वेफर स्थानांतरण के लिए एक हल्का लेकिन मजबूत आर्म बनता है। इस सामग्री का तापीय विस्तार गुणांक (7.2×10⁻⁶/°C) सिलिकॉन के लगभग समान है, जिससे प्रसंस्करण के दौरान तापीय असंतुलन कम से कम होता है।
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बर्नौली सिरेमिक एंड इफेक्टर — पतले और नाजुक वेफर्स के लिए गैर-संपर्क वेफर हैंडलिंग
सेंट सेरा का बर्नौली सिरेमिक एंड इफ़ेक्टर, वेफर्स को बिना किसी भौतिक संपर्क के स्थानांतरित करने के लिए वायुगतिकीय उत्प्लावन का उपयोग करता है। उच्च शुद्धता वाले 99.8% एल्यूमिना (Al₂O₃) या सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) से निर्मित, इसमें सटीक रूप से निर्मित नोजल होते हैं जो दबावयुक्त गैस को बाहर निकालकर एंड इफ़ेक्टर और वेफर के बीच एक पतली वायु परत बनाते हैं। यह गैर-संपर्क सिद्धांत पीछे की ओर संदूषण, किनारों के टूटने और सतह की क्षति को रोकता है, जिससे यह पतले (≤100 μm), नाजुक या मुड़े हुए वेफर्स के लिए आदर्श बन जाता है। सिरेमिक सब्सट्रेट उच्च लचीलापन शक्ति (Al₂O₃ के लिए 361 MPa; SiC के लिए 550–600 MPa तक), कम द्रव्यमान और उत्कृष्ट आयामी स्थिरता प्रदान करता है, जिससे उच्च गति वाले वेफर स्थानांतरण रोबोटों में बार-बार सटीक स्थिति सुनिश्चित होती है।
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टेफ्लॉन लेपित सिरेमिक एंड इफेक्टर – संवेदनशील वेफर को संभालने के लिए नॉन-स्टिक सतह
सेंट सेरा का टेफ्लॉन (पीटीएफई) लेपित सिरेमिक एंड इफ़ेक्टर उच्च-शक्ति वाले एल्यूमिना सब्सट्रेट को एक समान, कम घर्षण वाले पीटीएफई कोटिंग (मोटाई 15–30 μm) के साथ जोड़ता है। यह कोटिंग घर्षण का अत्यंत निम्न गुणांक (≤0.1), उत्कृष्ट रासायनिक प्रतिरोध और नॉन-स्टिक गुण प्रदान करती है, जिससे वेफर का चिपकना रोका जा सकता है और पीछे की ओर संदूषण नहीं होता है। अंतर्निहित सिरेमिक सब्सट्रेट (99.8% Al₂O₃) उच्च फ्लेक्सुरल शक्ति (361–1000 MPa), घिसाव प्रतिरोध और 260°C (कोटिंग सीमा) तक ऊष्मीय स्थिरता प्रदान करता है। यह एंड इफ़ेक्टर नाजुक, पतले या चिपचिपे वेफर्स (जैसे, फोटोरेसिस्ट कोटिंग या रासायनिक प्रक्रियाओं के बाद) को संभालने के लिए आदर्श है।
